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    天準為掩模生產過程中的測量提供高精度、高重復性系統,適用產品包括但不限于COG和PSM。


    針對掩模來料測量,天準提供長距離工作物鏡。測量包括掩模版上CD的分布,同時系統提供可見光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小300nm的特征尺寸,3sigma重復性通常在納米范圍內。

    主要特點

    Mask CD測量

    最大支持14寸掩模以及定制形狀

    可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光

    SECS/GEM

    長期維護成本低,穩定可靠

    Spector
    主要特點

    Mask CD測量

    最大支持6寸掩模

    可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光

    SECS/GEM

    長期維護成本低,穩定可靠

    MT270UV
    主要特點

    Mask膜厚,CD測量

    可配置可見光、紫外光、紅外光

    SECS/GEM

    長期維護成本低,穩定可靠

    MT2010 VIS/UV
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